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日本大亞真空微波 CVD 裝置


日本大亞真空微波(bō) CVD 裝置

發布時間:2025-09-01

作者(zhě):愛(ài)銳精密科技(大連)有限(xiàn)公(gōng)司(sī)

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產品描述:用途:薄膜成膜、表(biǎo)麵處理標準規(guī)格:反(fǎn)應室尺寸(cùn) 140×H200mm;微波(bō)電源 2.45GHz 0.5-3kW;模式變換器 TE10→TM01;氣體導入係(xì)統 MFC 2-4 係列

日本大亞真空微波 CVD 裝置

  • 用途:薄膜成膜、表麵處理

  • 標準規格(gé):

  • 反應室尺寸 140×H200mm;

  • 微波電源 2.45GHz 0.5-3kW;

  • 模(mó)式變換(huàn)器 TE10→TM01;

  • 氣體導入係統 MFC 2-4 係列

  • (詳細規格(gé)可協商(shāng))

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地址:大連市金州區金馬(mǎ)路120號(hào)福佳國際大廈1911室

全國24小時(shí)服務熱線0411-8718-9285

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