藍寶石拋光墊

發布時間：2025-06-19

作者：91在线观看精密科技（大連）有限公司

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產品描述：CMP 研（yán）磨墊，拋光墊， CMP PAD，氨基甲酸乙酯研（yán）磨墊（日本產（chǎn））日本進口TORAY半導（dǎo）體拋光墊，研磨墊，阻尼布采用高分子樹脂合成與濕式製膜加工技（jì）製得的高品質研磨拋光墊。產品特點:・材（cái）料（liào）的（de）親水（shuǐ）性:采用特殊冒泡聚氨基甲酸酯,對於拋光液的濡濕性(親水性）出眾.・基層纖（xiān）維厚度的均一性:拋光（guāng）壓力及拋光液的流動量均（jun1）一（yī）・起泡（pào）的泡

產品特點

CMP 研磨墊，拋光墊， CMP PAD，氨基甲酸乙酯（zhǐ）研磨墊（日本產）

日本進口TORAY半導體拋光墊，研磨墊，阻尼布（bù）

采用（yòng）高分子樹脂合成與（yǔ）濕式製膜加工技製得的高品質研磨拋光墊。

阻尼布拋光墊

產品特點:

・材料的親水性:

采用特殊冒（mào）泡聚氨基甲（jiǎ）酸（suān）酯,對（duì）於拋光液的濡濕性(親水性）出（chū）眾.

・基層纖維厚度的均一性:

拋光壓力及拋光液的流動量均（jun1）一

・起泡的泡囊長度均一性:

拋光壓力及拋光液的流動量均一以及拋光效率的均一性高

・起泡的泡囊形狀均一性:

拋光液的含量均一,因此拋（pāo）光效率均一性高

・起泡的泡囊的開口口徑均一性:

拋光效率均（jun1）一性高

・基層材料采用微細纖維,厚度均（jun1）一性及壓力均一性都優越，拋光效率（lǜ）高

・絨毛長度更長,良好的親水性和拋光液流動率,通過減薄工藝,更好保持拋光後的麵型（xíng）精度

・兼容（róng）性好,藍寶石,水晶,晶片的精拋光用

TORAY CIEGAL 研磨墊（diàn）（阻尼布）物理特性：

品名	CIEGAL 7355-000FE	CIEGAL EC8410	CIEGAL 25-0E	CIEGAL 25-3E	CIEGAL 25-3L
重量（g/m2)	510±100	500±80	475±80	467±120	560±50
厚度（mm）	1.49±0.10	1.50±0.10	1.45±0.15	1.45±0.23	1.37±0.10
壓縮彈性率（%）	74±15	70±15	71±20	71±25	75±8
壓縮率（%）	3.3±1.0	2.9±1.1	3.7±1.5	3.4±2.3	3.0±0.8
C硬度（Asker c)	58±5	58±5	56±5	58±5	70±3
Nap Layer(um)	530±80	530±100	500±80	500±80	500±80
開口（kǒu）徑（um）	65±20	70±20	80±20	80±20	80±20
摩擦係數（順）	---	---	---	---	---
摩擦係數（逆）	---	---	---	---	---
應用	Si(矽)晶圓及（jí）液晶（jīng）麵板的表麵拋光	Si(矽）, GaAs（砷化镓）,GaP（磷化镓），藍寶石晶（jīng）圓的表麵拋光	Si（矽）晶圓二次研磨，Al板的NiP（磷（lín）化鎳（niè））鍍層的表麵拋光

品名	CIEGAL 27-3	CIEGAL 125-000-13	CIEGAL 8103	CIEGAL 7455-006
重量（g/m2)	320±30	416±48	200±30	470±50
厚度（mm）	0.98±0.10	1.30±0.10	0.65±0.05	1.25±0.10
壓縮（suō）彈性率（%）	73±15	85±15（參考）	---	---
壓縮率（%）	4.0±2.0	7.0±3.0（參考）	---	---
C硬度（Asker c)	67±5	59±8	---	---
Nap Layer(um)	570±70	---	---	---
開口（kǒu）徑（um）	70±30	---	---	---
摩（mó）擦係數（順）	---	---	0.95±0.15	0.83±0.12
摩擦係數（逆）	---	---	0.92±0.15	0.83±0.12
應用	光學濾鏡（jìng）的拋光	一般研磨墊	刹（shā）車片（piàn）材

TORAY CIEGAL 研磨墊（阻尼布）化學特性

品名	CIEGAL 7355-000FE	CIEGAL 25-0E，25-3E，25-3L	CIEGAL 125-000-13
耐酸性（鹽酸）	○ PH值（2-7）	○ PH值（zhí）（1-7）	○ PH值（1-7）
耐堿性（氧（yǎng）氧化鈉）	○ PH值（7-11）	○ PH值（7-13）	○ PH值（7-13）
耐氧化性（次氯酸鈉）	○	△	○
耐熱性（軟化點）	190℃	190℃	190℃

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